ሃስተሊC4ከኒኬል፣ ክሮሚየም እና ሞሊብዲነም የተዋቀረ ቅይጥ ነው። ዝገትን ለመዋጋት በጣም ሁለገብ ቅይጥ ተደርጎ ይቆጠራል። ይህ ቅይጥ ወደ ብየዳ ሙቀት ከተገዛለት ጊዜ እህል ድንበር ዝቃጭ ምስረታ የመቋቋም ያሳያል, በውስጡ በተበየደው ሁኔታ ውስጥ የተለያዩ ኬሚካላዊ ሂደት መተግበሪያዎች ተስማሚ ያደርገዋል. በተጨማሪ, AlloyC4እስከ 1900°F ድረስ ለጉድጓድ፣ ለጭንቀት-መበላሸት እና ኦክሳይድ አድራጊ ከባቢ አየርን ለመቋቋም የላቀ የመቋቋም ችሎታ ያሳያል። ለተለያዩ ኬሚካዊ አካባቢዎች ልዩ የመቋቋም ችሎታ አለው።
ማመልከቻዎች፡-
1.Paper ኢንዱስትሪ: Digesters እና bleach ተክሎች.
2.Sour ጋዝ አካባቢዎች: ለጎምዛዛ ጋዝ የተጋለጡ አካላት.
3.Flue-gas desulfurization ተክሎች: flue-gas desulfurization ተክሎች ውስጥ ጥቅም ላይ መሣሪያዎች.
4. የሰልፈሪክ አሲድ አከባቢዎች፡- በሰልፈሪክ አሲድ አከባቢዎች ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውሉ መትነኛዎች፣ ሙቀት መለዋወጫዎች፣ ማጣሪያዎች እና ቀላቃዮች።
5.Sulfuric acid reactors: በሰልፈሪክ አሲድ ሬአክተሮች ውስጥ የተቀጠሩ መሳሪያዎች.
6.Organic ክሎራይድ ሂደት: በኦርጋኒክ ክሎራይድ ሂደት ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውሉ መሳሪያዎች.
7.Halide ወይም acid catalyst ሂደቶች፡- ሃሊድ ወይም አሲድ ማነቃቂያዎችን በሚጠቀሙ ሂደቶች ውስጥ የተቀጠሩ መሳሪያዎች።
ደረጃ | C276 | C22 | C4 | B3 | N | ||
ኬሚካል ቅንብር (%) | C | ≤0.01 | ≤0.015 | ≤0.015 | ≤0.02 | ≤0.01 | 0.04-0.08 |
Mn | ≤1 | ≤0.5 | ≤1 | ≤1 | ≤3 | ≤1 | |
Fe | 4-7 | 2-6 | ≤3 | ≤2 | ≤1.5 | ≤5 | |
P | ≤0.04 | ≤0.02 | ≤0.04 | ≤0.04 | – | ≤0.015 | |
S | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.03 | ≤0.03 | – | ≤0.02 | |
Si | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.08 | ≤0.1 | ≤0.1 | ≤1 | |
Ni | ማረፍ | ማረፍ | ማረፍ | ማረፍ | ≥65 | ማረፍ | |
Co | ≤2.5 | ≤2.5 | ≤2 | ≤1 | ≤3 | ≤0.2 | |
ቲ+ኩ | – | – | ≤0.7 | – | ≤0.4 | ≤0.35 | |
አል+ቲ | – | – | – | – | ≤0.5 | ≤0.5 | |
Cr | 14.5-16.5 | 20-22.5 | 14-18 | ≤1 | ≤1.5 | 6-8 | |
Mo | 15-17 | 12.5-14.5 | 14-17 | 26-30 | ≤28.5 | 15-18 | |
B | – | – | – | – | – | ≤0.01 | |
W | 3-4.5 | 2.5-3.5 | – | – | ≤3 | ≤0.5 | |
V | ≤0.35 | ≤0.35 | – | 0.2-0.4 | – | ≤0.5 |